[发明专利]非易失性存储器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110023617.1 申请日: 2011-01-21
公开(公告)号: CN102237368A 公开(公告)日: 2011-11-09
发明(设计)人: 金锡九;李承百;李俊赫;吴瑟技 申请(专利权)人: 海力士半导体有限公司;汉阳大学校产学协力团
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247;H01L21/768
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 郭放;张文
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开了一种非易失性存储器件以及一种制造非易失性存储器件的方法。所述非易失性存储器件包括:多个串,所述多个串中的每个具有在多个字线之上垂直层叠的有源层;至少一个位线连接单元,所述位线连接单元在字线的一个端部之上垂直地形成并具有阶梯形;以及多个位线,所述位线中的每个与位线连接单元的多个有源区中的每个耦合。
搜索关键词: 非易失性存储器 及其 制造 方法
【主权项】:
一种非易失性存储器件,包括:多个串,所述多个串中的每个具有在多个字线之上垂直层叠的有源层;至少一个位线连接单元,所述位线连接单元垂直地形成在所述字线的一个端部之上并具有阶梯形;以及多个位线,所述多个位线中的每个与所述位线连接单元的多个有源区中的每个耦合。
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