[发明专利]沉积结构及配合其使用的聚对二甲基苯沉积系统

摘要

本发明公开了一种沉积结构，包括腔体、基材置放座及辅助件，腔体包括内容室、入口及出口，入口与出口分别连通内容室与腔体外部；基材置放座容置于内容室；辅助件置放于内容室并邻近于内容室的壁面，辅助件并选自下列组件之至少其中之一：防着板及导流板。本发明还提供了一种配合上述沉积结构使用的聚对二甲基苯沉积系统，其包括蒸发管、裂解管、冷凝机及真空泵浦，裂解管连结于蒸发管与入口；冷凝机连结于出口；真空泵浦连结于冷凝机。藉此，可达到提高材料使用率并节省材料、并可提高镀膜质量及节省待机维修时间的目的。

主权项

一种沉积结构，包括：一腔体，包括一内容室、一入口及一出口，且该入口与该出口分别连通该内容室与该腔体外部；一基材置放座，容置于该内容室；以及一辅助件，置放于该内容室并邻近于该内容室的壁面，且该辅助件选自下列组件之至少其中之一：一防着板及一导流板。