[发明专利]光学元件射出成型方法无效
| 申请号： | 201110028236.2 | 申请日： | 2011-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN102615779A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 许嘉麟 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | B29C45/26 | 分类号： | B29C45/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种光学元件射出成型方法，其包括如下步骤：提供一用于光学元件射出成型的模具，该模具包括一具有成型腔的模仁；采用原子层沉积法在该模仁的成型腔表面沉积一层润滑膜层；使用该模具射出成型该光学元件。与现有技术相比，本发明所提供的该光学元件射出成型方法，通过在射出成型之前采用原子层沉积法在成型腔表面沉积一层润滑膜层，从而大大增加了成型材料在对成型腔填充时的流动性，提高了光学元件成品的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 射出 成型 方法 | ||
【主权项】：
一种光学元件射出成型方法，其特征在于包括如下步骤：提供一用于光学元件射出成型的模具，该模具包括一具有成型腔的模仁；采用原子层沉积法在该模仁的成型腔表面沉积一层润滑膜层；使用该模具射出成型该光学元件。
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