[发明专利]发光二极管的制法有效
申请号: | 201110030383.3 | 申请日: | 2011-01-19 |
公开(公告)号: | CN102610708A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 龚正;陈怡宏;刘建政 | 申请(专利权)人: | 鼎元光电科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/44;C23C22/60 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 梁爱荣 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是关于一种发光二极管的制法,包含:前段制程、制作电极,制作电极后形成半成品、化学成膜步骤以及切割步骤,该化学成膜步骤包括:提供一溶液,该溶液为一碱性且含氧量高的溶液;以及,浸泡,将所述半成品浸泡于该溶液中,使半成品本身与溶液产生反应,而于该半成品的预定处形成一层铝镓砷氧化层。由此,乃能提高发光二极管在高湿度下的寿命。 | ||
搜索关键词: | 发光二极管 制法 | ||
【主权项】:
一种发光二极管的制法,包含前段制程、制作电极以及切割步骤,且制作电极后形成半成品,其特征在于:在该制作电极步骤与切割步骤之间进一步包含一化学成膜步骤,该化学成膜步骤包括:提供一溶液,该溶液为碱性且含氧量高;以及浸泡,将所述半成品浸泡于该溶液中,使半成品本身与溶液产生反应,而于该半成品的预定处形成一层氧化层。
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