[发明专利]光致抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 201110038475.6 | 申请日： | 2011-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN102162995A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | 增山达郎;山口训史 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00;H01L21/027;C07C321/30;C07C319/20;C07D215/58;C07D207/48;C07D211/96 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 柳春琦 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，所述的光致抗蚀剂组合物含有：包含由式(IA)表示的阴离子的锍盐，其中R1和R2独立地表示氢原子、C1-C12脂族烃基、C3-C20饱和环烃基、C6-C20芳族烃基或C7-C21芳烷基，并且所述脂族烃基、所述饱和环烃基、所述芳族烃基和所述芳烷基可以具有一个或多个选自由羟基、氰基、氟原子、三氟甲基和硝基组成的组中的取代基，并且所述脂族烃基中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替，或R1和R2相互结合以与它们连接的氮原子一起形成C4-C20含氮环；丙烯酸类树脂，其具有酸不稳定基团，并且不溶或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液；和酸生成剂。 |
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| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：具有由式(IA)表示的阴离子的锍盐：![]()
其中R1和R2独立地表示氢原子、C1-C12脂族烃基、C3-C20饱和环烃基、C6-C20芳族烃基或C7-C21芳烷基，并且所述脂族烃基、所述饱和环烃基、所述芳族烃基和所述芳烷基可以具有一个或多个选自由羟基、氰基、氟原子、三氟甲基和硝基组成的组中的取代基，并且所述脂族烃基中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替，或R1和R2相互结合以与它们连接的氮原子一起形成C4-C20含氮环，丙烯酸类树脂，其具有酸不稳定基团，并且不溶或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，和酸生成剂。
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