[发明专利]双台座光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201110039515.9 | 申请日： | 2006-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN102096339A | 公开（公告）日： | 2011-06-15 |
| 发明（设计）人： | M·A·范登布林克;J·P·H·本肖普;E·R·卢普斯特拉 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种双台座光刻设备，其中，构建并设置台座使其相互协作，以便于执行连接扫描移动，用于将该设备从第一位置带到第二位置，其中在第一位置，所述液体被限制在所述台座中的第一台座支撑的第一衬底和最后元件之间，在第二位置所述液体被限制在两个台座中的第二台座支撑的第二衬底和最后元件之间，从而在连接扫描移动过程中，液体基本被限制在关于最后元件的所述空间内。 | ||
| 搜索关键词： | 台座 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：支撑结构，用于支撑构图器件，该构图器件能够将在其截面上的图案赋予辐射束，以形成所构图的辐射束；测量系统，用于在设备的测量站中测量衬底参数；投射系统，用于在设备的曝光站中，将该所构图的辐射束投射到衬底上；定位系统和至少两个台座，用于支撑衬底，其中构建定位系统用于在测量站和曝光站之间移动台座，其中在曝光站进行曝光的过程中，根据那个衬底的至少一个测量参数，定位系统对支撑衬底的台座之一定位；承载测量架的底座，该测量架支持测量系统和投射系统，其中测量架与底座动态隔离，并且其中测量系统包括在测量站和曝光站中延伸的编码器系统，用于测量台座位置。
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