[发明专利]光刻设备和方法有效
| 申请号： | 201110042174.0 | 申请日： | 2008-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN102122117A | 公开（公告）日： | 2011-07-13 |
| 发明（设计）人： | 海涅·麦利·马尔德;约翰尼斯·雅克布斯·曼塞阿斯·卑斯尔曼思;艾德瑞纳斯·弗朗西斯克斯·皮卓斯·恩格伦;马卡斯·弗朗西斯克斯·安东尼斯·欧林斯;亨德瑞卡斯·罗伯特斯·玛丽·范格林温布洛克;帕特瑞卡斯·阿洛伊修斯·雅克布斯·蒂内曼斯;保罗·范德文;威尔弗莱德·爱德伍德·恩登迪基克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻装置及其方法。本发明还公开了一种器件制造方法，所述方法包括采用照射系统调节辐射束。所述调节包括：控制照射系统的独立可控的元件的阵列和相关的光学部件，以将辐射束转换成所需的照射方式，所述控制包括将不同的独立可控元件根据分配方案分配给所述照射方式的不同部分，所述分配方案被选择用于对照射方式、辐射束或照射方式与辐射束两者的至少一个属性提供所需的修正。所述方法也包括：以图案在辐射束的横截面上对辐射束进行图案化，以形成图案化的辐射束；以及将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种方法，所述方法包括：采用照射系统提供辐射束；采用图案形成装置将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束；以及将图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上，其中所述照射系统包括：独立可控的元件阵列以及相关的光学部件，所述独立可控的元件阵列以及相关的光学部件被设置用于将辐射束转换成所需的照射方式；以及其中分配方案用于将不同的独立可控的元件分配给所述照射方式的不同部分，所述分配方案被选择用于提供所述照射方式或所述辐射束的至少一种属性的所需修改。
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