[发明专利]曝光底片上CCD对位读取点的设计方法无效

专利信息
申请号: 201110052290.0 申请日: 2011-03-04
公开(公告)号: CN102109774A 公开(公告)日: 2011-06-29
发明(设计)人: 李加余;龚俊 申请(专利权)人: 胜宏科技(惠州)有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 任海燕
地址: 516211 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种线路板曝光底片CCD对位点的设计方法,所述曝光底片包括C底片和S底片,在所述C底片或S底片上设置一矩形边框,在矩形边框中心设置一具有缺口的空心圆环;在与其配合使用的S底片或C底片上对应设置一同样大小的矩形边框,在此矩形边框中心设置一实心圆点。C底片或S底片上空心圆环的缺口数量、缺口宽度和空心圆环内、外半径均可根据实际需要设置。本发明可以使CCD对位圆环膜更牢固的贴附于底片上,避免在显影冲洗时脱落,有效避免脱落后的膜反沾至制品板面及污染显影缸;同时,由于圆环面积减少,可缩短曝光机读取CCD的时间,提升了效率。
搜索关键词: 曝光 底片 ccd 对位 读取 设计 方法
【主权项】:
曝光底片上CCD对位读取点的设计方法,所述曝光底片包括C底片和S底片,在所述C底片或S底片上设置一矩形边框,在矩形边框中心设置一具有缺口的空心圆环;在与其配合使用的S底片或C底片上对应设置一同样大小的矩形边框,在此矩形边框中心设置一实心圆点。
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