[发明专利]衬底转移容器、气体净化监视工具及具有其的半导体制造设备有效

专利信息
申请号: 201110064115.3 申请日: 2011-03-15
公开(公告)号: CN102194730A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 罗秉国;尹泰植;李建衡;金贤俊;金赫基;金起斗 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677;H01L21/67;H01L21/00;H01L21/66
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 李佳;穆德骏
地址: 韩国京畿道水*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种衬底转移容器、气体净化监视工具及具有其的半导体制造设备。该衬底转移容器,包括壳体,所述壳体包括在具有内部环境的气体腔内设置的多个衬底槽。每个衬底槽容纳经受衬底制造处理的衬底,该气体腔的内部环境选择性与外部环境密封。壳体处的检测单元被构造和设置成检测气体腔的内部环境的环境属性,并响应地产生检测信号。壳体处的信号传送模块被构造成无线传送从检测单元接收的检测信号。
搜索关键词: 衬底 转移 容器 气体 净化 监视 工具 具有 半导体 制造 设备
【主权项】:
一种衬底转移容器,包括:壳体,所述壳体包括多个衬底槽,每个衬底槽用于保持经受制造处理的衬底;门,所述门被构建和布置成:密封所述壳体的内部环境;所述壳体处的检测单元,所述检测单元用于检测所述内部环境的环境属性;以及信号传送模块,所述信号传送模块被构造成:传送从所述检测单元接收的检测信号。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110064115.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top