[发明专利]衬底台的盖、光刻设备的衬底台、光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 201110065005.9 | 申请日： | 2011-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN102193335A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | R·W·L·拉法瑞;N·J·J·罗塞特;A·N·兹德瑞乌卡夫;J·W·斯塔伍德埃姆;B·L·J·比哲 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种衬底台的盖、光刻设备的衬底台、光刻设备和器件制造方法，尤其提供了一种用于浸没光刻设备中的衬底台的盖，该盖至少覆盖衬底与其中容纳了衬底的衬底台中的凹陷之间的间隙。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用在光刻设备中的盖，所述光刻设备包括具有基本上平坦的上表面的衬底台，凹陷形成在所述基本上平坦的上表面中，所述凹陷配置成容纳和支撑衬底，所述盖包括基本上平坦的主体，所述主体在使用中围绕所述衬底从所述上表面延伸至所述衬底的上主面的周边部，用于覆盖所述凹陷的边缘与所述衬底的边缘之间的间隙，所述盖包括相对柔性部，所述相对柔性部在使用中围绕所述衬底延伸，所述相对柔性部配置成具有比所述盖的其余部分更低的刚度。
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