[发明专利]半导体装置封装体及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110070897.1 申请日: 2011-03-21
公开(公告)号: CN102214621A 公开(公告)日: 2011-10-12
发明(设计)人: 余振华;余佳霖;黄见翎;张宏宾;林咏淇;洪瑞斌 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L23/367;H01L25/075;H01L33/64;H01L21/48
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 张浴月;刘文意
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种半导体装置封装体及其制造方法,其中,具有穿硅插塞(或导孔)的基板可不需使用导电凸块。工艺流程非常简单且有成本效益。本结构将个别的硅穿孔、重分布层及导电凸块结构结合至单一结构中。经由结合个别的结构,可以得到一具有高散热能力的低电阻电性连接。另外,具有穿硅插塞(或导孔,或沟槽)的基板也使得多个芯片可以封装在一起。穿硅沟槽可围绕一个或多个芯片,以在工艺中避免铜扩散到邻近装置。另外,多个具有相似或相异功能的芯片可整合在硅穿孔基板上。具不同图案的穿硅插塞可用在一半导体芯片之下以增进散热及解决工艺问题。
搜索关键词: 半导体 装置 封装 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体装置封装体,包括:一基板,其具有从该基板的一第一表面延伸至与该第一表面相反的一第二表面的多个穿硅插塞,其中一隔离层及一第一铜阻挡层内衬于该一个或多个穿硅插塞的侧壁,且一第一铜层填入所述多个穿硅插塞,其中所述多个穿硅插塞具有第一端及第二端,且其中第二端具有该第一铜层延伸于该基板的第一表面之上,而第一端具有该第一铜层填充至该基板的第二表面;一第二铜层,形成于所述多个穿硅插塞的第一端上,其中该第二铜层定义出一区域以接收一半导体芯片,其中具有一第二铜阻挡层分离所述多个穿硅插塞第一端上的该第一铜层与该第二铜层;及该半导体芯片置于该第二铜层所定义出的区域之上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110070897.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top