[发明专利]光刻设备对准方法

摘要

一种光刻设备对准方法，包括光源与照明模块提供照明光束照射位于硅片上的对准标记上形成衍射光，硅片位于运动台上；位置采集与运动控制模块采集运动台位置信息，与对准操作与管理模块同步谈判，控制运动台运动；衍射光通过成像模块扫描参考光栅的多个子光栅形成光强信号；对准操作与管理模块采集运动台的若干位置信号和对应位置的光强信号，由队列处理模块获得若干位置信号和对应位置的光强信号的拟合结果，队列处理模块包括拟合命令队列、位置光强队列和拟合结果队列，拟合命令队列、位置光强队列和拟合结果队列为环形队列或者链队列；根据拟合结果计算对准标记的对准位置。所述对准方法可以提高对准系统的稳定性，减少对准时间。

主权项

一种光刻设备对准方法，其特征在于，包括以下步骤：光源与照明模块提供照明光束照射到对准标记上形成衍射光，所述对准标记位于硅片上，所述硅片位于运动台上；位置采集与运动控制模块采集运动台的位置信息，与对准操作与管理模块同步谈判，控制运动台进行运动；所述衍射光通过成像模块形成对准标记的像，所述对准标记的像扫描参考光栅的多个子光栅形成光强信号；所述对准操作与管理模块采集运动台运动过程中的若干位置信号和对应位置的光强信号，由队列处理模块获得所述若干位置信号和对应位置的光强信号的拟合结果，所述队列处理模块包括拟合命令队列、位置光强队列和拟合结果队列，所述拟合命令队列、所述位置光强队列和所述拟合结果队列为环形队列或者链队列；根据所述拟合结果计算所述对准标记的对准位置。