[发明专利]真空清洗装置在审
| 申请号： | 201110074445.0 | 申请日： | 2011-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN102698977A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 顾友芳;李宁 | 申请（专利权）人： | 东莞新科技术研究开发有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B3/12;B08B3/10;B08B3/08 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫 |
| 地址： | 523087 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空清洗装置，其包括可容纳清洗液的清洗槽、支撑半导体产品并浸到所述清洗液中的支撑装置、对所述清洗液施加超声波振动的振动施加装置、以及设置于所述清洗槽的下方，并对所述清洗液加热的加热装置；其特征在于：还包括抽气装置，其用于在清洗过程中连续抽出所述清洗槽中的空气，从而至少制造局部真空环境，使得所述清洗液在低于沸点的温度下沸腾，进而在半导体产品的任意位置上将其清洗。采用本发明的真空清洗装置，其清洗效果好、清洗环境安全性高，而且减少清洗液的浪费，节省成本。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种真空清洗装置，包括可容纳清洗液的清洗槽、支撑半导体产品并浸到所述清洗液中的支撑装置、对所述清洗液施加超声波振动的振动施加装置、以及设置于所述清洗槽的下方，并对所述清洗液加热的加热装置；其特征在于：还包括抽气装置，其用于在清洗过程中连续抽出所述清洗槽中的空气，从而至少制造局部真空环境，使得所述清洗液在低于沸点的温度下沸腾，进而在半导体产品的任意位置上将其清洗。
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