[发明专利]半导体结构及其制造方法与操作方法有效

专利信息
申请号: 201110081711.2 申请日: 2011-03-29
公开(公告)号: CN102738141A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 陈信良;陈永初;吴锡垣 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/74;H01L21/8228
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周国城
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种半导体结构及其制造方法与操作方法。半导体结构包括第一阱区、第二阱区、第一掺杂区、第二掺杂区、阳极与阴极。第二阱区邻近第一阱区。第一掺杂区位于第二阱区上。第二掺杂区位于第一阱区上。阳极耦接至第一掺杂区与第二阱区。阴极耦接至第一阱区与第二掺杂区。第一阱区与第一掺杂区具有第一导电型。第二阱区与第二掺杂区具有第二导电型。第二导电型相反于第一导电型。
搜索关键词: 半导体 结构 及其 制造 方法 操作方法
【主权项】:
一种半导体结构,包括:一第一阱区;一第二阱区,邻近该该第一阱区;一第一掺杂区,位于该第二阱区上;一第二掺杂区,位于该第一阱区;一阳极,耦接至该第一掺杂区与该第二阱区;及一阴极,耦接至该第一阱区与该第二掺杂区,其中,该第一阱区与该第一掺杂区具有一第一导电型,该第二阱区及该第二掺杂区具有一第二导电型,该第二导电型相反于相反该第一导电型。
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