[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 201110083335.0 | 申请日： | 2004-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN102147574A | 公开（公告）日： | 2011-08-10 |
| 发明（设计）人： | J·洛夫;H·布特勒;S·N·L·当德斯;A·科勒斯辰科;E·R·鲁普斯特拉;H·J·M·梅杰;J·C·H·穆肯斯;R·A·S·里特塞马;F·范沙克;T·F·森格斯;K·西蒙;J·T·德斯米特;A·斯特拉艾杰;B·斯特里科克;E·T·M·比拉尔特;C·A·胡根达姆;H·范桑坦;M·A·范德科霍夫;M·克鲁恩;A·J·登博夫;J·J·奥坦斯;J·J·S·M·梅坦斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。在所述装置中，投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻装置，该装置包括：传感器，定位成用于通过来自投影系统或对准系统的辐射光束照射；液体供给系统，用于填充在所述投影系统或所述对准系统与所述传感器之间的空间；安装在台上的板，其中所述板定位在所述传感器与所述投影系统或所述对准系统之间，或其中所述传感器的至少一部分位于所述板上。
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