[发明专利]具有可绕射光栅点的微结构、膜料及该膜料的形成方法有效

专利信息
申请号: 201110095281.X 申请日: 2011-04-15
公开(公告)号: CN102737262A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 廖宏荣;张颖岳;何宜津;王毅琪 申请(专利权)人: 华锦光电科技股份有限公司
主分类号: G06K19/06 分类号: G06K19/06;G02B5/18
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 董彬
地址: 中国台湾台北*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种具有可绕射光栅点的微结构、膜料及该膜料的形成方法。该微结构包括多个可绕射光栅点以及运用于该些可绕射光栅点的一图样区的一影像防伪手段,该图样区包括一不能目视辨识的图样,其中透过一微透镜数组,藉以辨识该影像防伪手段下的该不能目视辨识的图样的一图样影像。本发明利用光栅的多种参数的搭配,设计出不同层次的防伪结构,可增加被辨识的难度,提高仿冒的成本以及门坎,且能够提供不同业者或使用者客制化所需的防伪图案之用。
搜索关键词: 具有 可绕射 光栅 微结构 料及 形成 方法
【主权项】:
一种具有可绕射光栅点的微结构,其特征在于,包括:包括多个可绕射光栅点的一图样区以及运用于该些可绕射光栅点的多个防伪手段,该图样区包括一不能目视辨识的图样,该些防伪手段包括一影像防伪手段,其中透过一微透镜数组,以辨识该影像防伪手段下的该不能目视辨识的图样的一图样影像。
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