[发明专利]荧光强度校正方法、荧光强度计算方法及计算装置有效

专利信息
申请号: 201110101152.7 申请日: 2011-04-21
公开(公告)号: CN102235976A 公开(公告)日: 2011-11-09
发明(设计)人: 加藤泰信;酒井启嗣 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 李丙林;张英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 本文提供了荧光强度校正方法、荧光强度计算方法及计算装置。更具体地,提供了一种荧光强度计算装置,包括:测量部,该测量部被构造成通过光检测器接收由通过对用多个荧光染料多重标记的微粒照射光而激发的多个荧光染料产生的荧光,然后通过从光检测器收集检测值来获得测定光谱;以及计算部,该计算部被构造成基于从用荧光染料单个标记的微粒获得的单染色光谱的线性总和来近似测定光谱,从而分别计算由荧光染料产生的荧光的强度,其中该多个荧光染料具有彼此重叠的荧光波长带,并且其中该光检测器分别对应于不同的接收光波长带,并且该光检测器的数量大于荧光染料的数量。
搜索关键词: 荧光 强度 校正 方法 计算方法 计算 装置
【主权项】:
一种荧光强度校正方法,包括以下步骤:通过光检测器来接收荧光,所述荧光由通过对用多个荧光染料多重标记的微粒照射光而激发的所述多个荧光染料产生,其中所述多个荧光染料具有彼此重叠的荧光波长带,并且其中所述光检测器分别对应于不同的接收光波长带,并且所述光检测器的数量大于所述荧光染料的数量;以及基于从用所述荧光染料单个标记的微粒获得的单染色光谱的线性总和,对通过从所述多个光检测器收集检测值而获得的测定光谱进行近似。
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