[发明专利]照射系统和光刻设备有效
| 申请号： | 201110122353.5 | 申请日： | 2011-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN102262359A | 公开（公告）日： | 2011-11-30 |
| 发明（设计）人： | B·J·克拉塞斯;P·范德维恩;H·M·马尔德;B·P·范德利恩胡森;J·F·D·费尔贝克;W·E·恩登迪基克;W·J·博曼;M·H·M·达森;T·J·H·霍尔林克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种具有单独可控光学元件阵列的照射系统以及光刻设备，其中每个元件在能够被选择以便形成想要的照射模式的多个取向之间是可移动的。照射系统包括控制器，用以控制一个或多个元件的取向，所述控制器配置成施加力至所述一个或多个元件，其至少部分地补偿通过入射到一个或多个元件的辐射猝发串施加至一个或多个元件的力。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种照射系统，包括：单独可控光学元件阵列，每个元件在能够被选择以便形成想要的照射模式的多个取向之间是可移动的；和控制器，用以控制一个或多个元件的取向，所述控制器配置成施加力至所述一个或多个元件，其至少部分地补偿通过入射到所述一个或多个元件的辐射猝发串施加至所述一个或多个元件的力。
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