[发明专利]固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物及其制造方法、固化膜及其形成方法及显示元件有效
| 申请号： | 201110144391.0 | 申请日： | 2011-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN102298264A | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | 米田英司;西信弘;儿玉诚一郎;猪俣克巳 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/00;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物及其制造方法、固化膜及其形成方法及显示元件。本发明的目的是提供同时满足贮存稳定性和低温烧制，并且具有足够的放射线敏感度的固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物、耐热性、耐化学试剂性、透光率、平坦性及耐线性热膨胀性优异的固化膜、以及电压保持率优异的显示元件。本发明为一种固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物，其含有[A]具有(a1)含羧基的结构单元及(a2)含环氧基的结构单元的共聚物、[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物、[C]放射线敏感性聚合引发剂、[D]具有羟基或羧基的化合物及[E]胺化合物，并且在25℃下的粘度为1.0mPa·s以上50mPa·s以下。 | ||
| 搜索关键词： | 固化 形成 放射线 敏感性 树脂 组合 及其 制造 方法 显示 元件 | ||
【主权项】：
固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物，其含有：[A]具有(a1)含羧基的结构单元及(a2)含环氧基的结构单元的共聚物、[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物、[C]放射线敏感性聚合引发剂、[D]具有羟基或羧基的化合物、及[E]胺化合物；并且在25℃下的粘度为1.0mPa·s以上50mPa·s以下。
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