[发明专利]一种制作位相型波带片的方法无效
| 申请号： | 201110150368.2 | 申请日： | 2011-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN102207569A | 公开（公告）日： | 2011-10-05 |
| 发明（设计）人： | 谢常青;方磊;朱效立;李冬梅;刘明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制作位相型波带片的方法，包括：制作基片；在该基片上旋涂光刻胶，对该光刻胶进行光刻、曝光和显影，形成波带片的光刻胶图形；在形成波带片的光刻胶图形的基片上沉积氮化硅层；去除光刻胶并刻蚀基片，形成位相型波带片。本发明提供的制作位相型波带片的方法，相对于传统波带片制作工艺，制作工艺简单，成本低廉，能提高波带片的衍射效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作 位相 波带片 方法 | ||
【主权项】：
一种制作位相型波带片的方法，其特征在于，包括：制作基片；在该基片上旋涂光刻胶，对该光刻胶进行光刻、曝光和显影，形成波带片的光刻胶图形；在形成波带片的光刻胶图形的基片上沉积氮化硅层；去除光刻胶并刻蚀基片，形成位相型波带片。
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