[发明专利]晶体管结构及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110164962.7 申请日: 2011-06-20
公开(公告)号: CN102683407A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: 黄庆玲;吴铁将 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/423;H01L29/06;H01L21/336
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 冯志云;郭晓东
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明的晶体管结构包含一半导体基板;一导电区块,设置于该半导体基板之中;一栅极介电层,设置于该导电区块及该半导体基板之间;一鼓形介电结构,设置于该导电区块及该栅极介电层之上。本发明同时涉及一种晶体管结构的制备方法。
搜索关键词: 晶体管 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
一种晶体管结构(60),包含:一半导体基板(61);一导电区块(73),设置于该半导体基板(61)之中;一栅极介电层(69B),设置于该导电区块(73)及该半导体基板(61)之间;一鼓形介电结构(90),设置于该导电区块(73)及该栅极介电层(69B)之上。
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