[发明专利]一种光学平面基片的制作方法

摘要

本发明属于光学仪器及配件技术领域，尤其是涉及一种光学平面基片的制作方法；其特征在于它包含有依次进行的以下步骤：选取原材料、预成型、仿形、研磨、抛光、清洗、检验。本发明采用物理与化学结合的方式制作光学平面基片，工序大部分采用机器进行，人工参与的很少；因此，本发明具有以下有益效果：光学平面基片制作时间短、产品间的差异小、适合于工业大规模应用、效率高，所制作的平面基片平面度、平行度、粗糙度参数好。

主权项

一种光学平面基片的制作方法，其特征在于它包含有依次进行的以下步骤：第一步：选取原材料：选取厚度为0.1mm～1.0mm的基片母板；第二步：预成型：采用划片机在基片母板上划下所需大小的基片毛坯；第三步：仿形：采用芯取机，对基片毛坯进行芯取达到预期轮廓的芯取片；第四步：研磨：采用球面研磨机或双面研磨机将芯取片进行研磨，研磨是在百级洁净室内进行的，温度为20℃～28℃；研磨是在研磨油中进行的，研磨完成形成研磨片；第五步：抛光：采用环抛机对研磨片的表面进行抛光；抛光是在抛光液中进行的，抛光时间为3分钟到10分钟，抛光温度为32℃～40℃，抛光压力150～250g/cm2；抛光完成形成抛光片；第六步：清洗：采用超声波清洗机对抛光片进行清洗，清洗并干燥完成得到清洗片；第七步：检验：对清洗片进行粗糙度、平行度、平面度、厚度、表面裂纹、透光度检验，挑选出全部合格的即形成了光学平面基片。