[发明专利]非晶相陶瓷涂层坩埚及制备方法无效
申请号: | 201110185256.0 | 申请日: | 2011-07-04 |
公开(公告)号: | CN102312185A | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
发明(设计)人: | 付少永;张驰;熊震;黄振飞 | 申请(专利权)人: | 常州天合光能有限公司 |
主分类号: | C23C4/10 | 分类号: | C23C4/10;C23C4/12;C30B35/00 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 王凌霄 |
地址: | 213031 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种非晶相陶瓷涂层坩埚及制备方法。在该坩埚的内壁具有非晶陶瓷薄膜。其制备方法为:a、高熔点陶瓷粉体喷雾造粒,粒径控制在15-60μm,微观形貌为球形或椭球形;b、热喷涂制备非晶涂层。本发明的有益效果是:采用高熔点粉体通过热喷涂制备的非晶态致密薄膜,其气孔率小于5%,薄膜厚度大于50μm,X射线衍射不能观察到明显衍射峰。电子探针显示氮元素原子比例大于40%。 | ||
搜索关键词: | 非晶相 陶瓷 涂层 坩埚 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种非晶相陶瓷涂层坩埚,其特征是:在坩埚的内壁具有非晶陶瓷薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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