[发明专利]坩埚、真空蒸镀系统及方法无效

专利信息
申请号: 201110190560.4 申请日: 2011-07-08
公开(公告)号: CN102864419A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 林君鸿 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: C23C14/30 分类号: C23C14/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种坩埚,包括一埚体,一受热体,及一多孔盖。该埚体一端开口,该受热体与该埚体连接,并包括一伸出该埚体开口的受热端,该受热端用于接受电子枪加热。该多孔盖盖于该埚体的开口端上,包括一避位孔和多个通气孔,该受热体的受热端穿过该避位孔。其中,该埚体、该受热体、该多孔盖以高熔点、传热性良好的材料制成。本发明设置了接受电子枪加热的受热端,从而避免了直接用电子枪加热膜料。本发明还涉及一种使用该坩埚的真空蒸镀系统及方法。
搜索关键词: 坩埚 真空 系统 方法
【主权项】:
一种坩埚,其特征在于,包括:一埚体,该埚体一端开口;一受热体,该受热体与该埚体连接,并包括一伸出该埚体开口的受热端,该受热端用于接受电子枪加热;一多孔盖,该多孔盖盖于该埚体的开口端上,包括一避位孔和多个通气孔,该受热体的受热端穿过该避位孔;其中,该埚体、该受热体和该多孔盖以高熔点、传热性良好的材料制成。
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