[发明专利]检测装置无效

专利信息
申请号: 201110195145.8 申请日: 2011-07-12
公开(公告)号: CN102331428A 公开(公告)日: 2012-01-25
发明(设计)人: 具昶根 申请(专利权)人: 韩美半导体株式会社
主分类号: G01N21/89 分类号: G01N21/89;H01L21/66
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 韩国仁*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明在此揭示一种检测装置,晶片表面在一方向中连续形成拥有延伸条纹状的多个锯痕。该装置包括:一传输单元,其于一方向为连续及水平传送晶片;一相机,其配置在晶片的传送路径,及拍摄由该传输单元传送的晶片;一照明单元,其配置相对于该相机,且提供光给晶片以拍摄晶片;及一棱镜片,其位于该相机与该照明单元之间。在此,该棱镜片是于一方向拥有延伸条纹状的多个不平坦图案的表面上形成。
搜索关键词: 检测 装置
【主权项】:
一种检测装置,用于检测一方向拥有延伸条纹状的多个锯痕(SM)的表面上连续形成的晶片(W),其特征在于,包括:一传输单元(10),在一方向中连续及水平传送晶片(W);一相机(20),其配置在晶片(W)的传送路径,及拍摄由所述传输单元(10)传送的晶片(W);一照明单元(30),其相对于所述相机(20)的配置,且提供光给晶片(W)以拍摄晶片(W);及一棱镜片(40),其位于所述相机(20)与所述照明单元(30)之间,所述棱镜片(40)为于一方向拥有延伸条纹状的多个不平坦图案(41)的表面上连续形成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于韩美半导体株式会社,未经韩美半导体株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110195145.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top