[发明专利]制造介质的方法和制造工件的系统无效
| 申请号： | 201110196689.6 | 申请日： | 2011-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN102339611A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 卞晓平;戴青;丹.S.克尔彻;马克.F.默卡多;肖奇凡;简.J.张 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/851 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 岳雪兰 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种制造介质的方法和一种制造工件的系统。制造介质的方法包括在衬底上形成记录介质。外涂层与衬底相背地沉积于记录介质上。外涂层具有第一表面构造。外涂层被蚀刻以去除材料且向外涂层提供第二表面构造，第二表面构造比第一表面构造更光滑。沉积和蚀刻可在原位干法真空工艺中顺序发生。蚀刻之后第二表面构造可以不被机械处理来进一步平坦化外涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 介质 方法 工件 系统 | ||
【主权项】：
一种制造介质的方法，包括：在衬底上形成记录介质；与该衬底相背地在该记录介质上沉积外涂层，该外涂层具有第一表面构造；以及然后蚀刻该外涂层从而去除材料并为该外涂层提供第二表面构造，该第二表面构造比该第一表面构造更光滑。
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