[发明专利]光盘用母盘的制造方法以及光盘用母盘无效
| 申请号： | 201110197666.7 | 申请日： | 2004-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN102332276A | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 白鹭俊彦;峰岸慎治 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26;G03F7/004 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 王莉莉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光盘用母盘的制造方法以及光盘用母盘，并具体涉及一种通过在衬底上溅射形成由过渡金属的不完全氧化物构成的无机光刻胶层作为膜的方法。过渡金属本身或其合金，或者其氧化物用作靶材料，并且氧或氮用作反应气体。通过改变反应气体的比率或成膜输出，可以使无机光刻胶层的氧浓度在厚度方向不同。曝光并且显影无机光刻胶层，从而获得用于设置有凹坑、组群等的精细凹凸图案的光盘的原始盘。当氧浓度增大时，可以实现感光度提高，从而实现感光度沿着无机光刻胶层的厚度方向的变化。从而，可以在单个盘上设置不同深度的凹凸结构。 | ||
| 搜索关键词： | 光盘 母盘 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
一种光盘用母盘的制造装置，该方法包括：成膜装置，在衬底上作为膜形成由过渡金属的不完全氧化物制成的无机光刻胶层；以及通过曝光和显影所述无机光刻胶层来形成包括凹/凸形状的光刻胶图案的曝光装置和显影装置，其中在所述成膜装置中，通过至少改变成膜功率或反应气体比率，使所述无机光刻胶层的氧浓度在其厚度方向上不同。
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