[发明专利]光控投射电机无效
| 申请号： | 201110198344.4 | 申请日： | 2011-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN102645132A | 公开（公告）日： | 2012-08-22 |
| 发明（设计）人： | 彭世雄;彭波;彭德真 | 申请（专利权）人： | 彭世雄 |
| 主分类号： | F41B6/00 | 分类号： | F41B6/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 102488 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光控电磁投射技术，具体指光控投射电机，由轨道磁轭、多相分布绕组、控制绕组和光栅及半导体控制电路组成定子投射电枢(加速器)，由直流或多相交流电源供电。投射电枢产生有梯度的受控运动磁场，将投射体匀加速到同步发射速度，用光栅控制技术(投射体自影位置跟踪)控制多相分布绕组换相，使运动磁场与投射体同步，用控制线圈控制投射体的发射姿态。根据投射体的发射要求，投射电机的定子投射电枢，可以是直线或螺旋加速型；轨道可以是单面、双面和多面管道型。投射体可以是弹丸、炮弹、导弹、卫星和飞机等等，对于不同的投射体，有不同的投射电机，它是一种新的投射技术途径，形成一门新的‘投射电机学’。用途：军事与民用。 | ||
| 搜索关键词： | 光控 投射 电机 | ||
【主权项】：
本发明提供一种光控电磁投射技术，具体指投射电机，由轨道磁轭、多相分布加速绕组、控制绕组和光栅及半导体控制电路组成定子投射电枢，由直流或交流电源供电，其特征是：在加速轨道磁轭上设置多相分布绕组、控制绕组和光栅，多相分布绕组产生有梯度的运动磁场(或旋转磁场)，将投射体匀加速到磁场运动的同步发射速度；用光栅控制技术(投射体自影位置跟踪)控制多相分布绕组换相，使运动磁场与投射体同步，利用控制线圈控制投射体的发射姿态。
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