[发明专利]在玻璃基板上制备膜层的方法及其玻璃基板、膜系结构无效
| 申请号： | 201110199271.0 | 申请日： | 2011-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN102351438A | 公开（公告）日： | 2012-02-15 |
| 发明（设计）人： | 徐日宏;詹达勇;郭永飞;罗高军 | 申请（专利权）人： | 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36;C03C17/22;B32B9/04;B32B17/00 |
| 代理公司： | 深圳市维邦知识产权事务所 44269 | 代理人： | 黄莉 |
| 地址： | 518000 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种在玻璃基板上制备膜层的方法，包括在玻璃基板单面或双面采用磁控溅射法生成抗反射增透混合膜层，该抗反射增透混合膜层为低折射率膜层与高折射率膜层的层叠结构；采用磁控溅射法在所述抗反射增透混合膜层另一面生成氮化碳化合物膜层。本发明还公开了一种膜系结构及镀有膜层的玻璃基板，以及另一种在玻璃基板上制备膜层的方法及镀有膜层的玻璃基板。采用本发明，保证了保护屏的质量，抗刮伤、耐磨及超硬抗划伤能力强。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃 基板上 制备 方法 及其 结构 | ||
【主权项】：
一种在玻璃基板上制备膜层的方法，其特征在于，包括：在玻璃基板单面或双面采用磁控溅射法生成抗反射增透混合膜层，该抗反射增透混合膜层为低折射率膜层与高折射率膜层的层叠结构；采用磁控溅射法在所述抗反射增透混合膜层另一面生成氮化碳化合物膜层。
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