[发明专利]镀膜的方法有效
| 申请号： | 201110210471.1 | 申请日： | 2011-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN102899608A | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 黄浩榕;周皓煜;康嘉滨;林哲玮 | 申请（专利权）人： | 群康科技（深圳）有限公司;奇美电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种镀膜的方法，其包括：提供一基板、以及一镀膜源与基板相对，提供一阴影掩模单元于基板与镀膜源之间且对应于基板的一第一区域，其中阴影掩模单元具有一开口图案，阴影掩模单元的面积小于基板的面积；以阴影掩模单元为掩模，利用镀膜源进行一第一镀膜制作工艺，以于开口图案所暴露出的第一区域上形成一第一图案化镀膜；使阴影掩模单元与基板之间相对位移，以使位移后的阴影掩模单元对应于基板的一第二区域；以及以阴影掩模单元为掩模，利用镀膜源进行一第二镀膜制作工艺，以于开口图案所暴露出的第二区域上形成一第二图案化镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
一种镀膜的方法，包括：提供一基板、以及一镀膜源与该基板相对，提供一阴影掩模单元于该基板与该镀膜源之间且对应于该基板的一第一区域，其中该阴影掩模单元具有一开口图案；以该阴影掩模单元为掩模，利用该镀膜源进行一第一镀膜制作工艺，以于该开口图案所暴露出的该第一区域上形成一第一图案化镀膜；使该阴影掩模单元与该基板之间相对位移，以使位移后的该阴影掩模单元对应于该基板的一第二区域，该第二区域与该第一区域部分重叠或是彼此分离；以及以该阴影掩模单元为掩模，利用该镀膜源进行一第二镀膜制作工艺，以于该开口图案所暴露出的该第二区域上形成一第二图案化镀膜。
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