[发明专利]改良西门子法-HCL气体脱水纯化方法

摘要

本发明公开了一种改良西门子法-HCL气体脱水纯化方法，包括①系统吹扫、②HCL气体洗涤脱水、③四氯化硅循环、④四氯化硅回收；本方法克服了其它脱水方式的不足，充分利用了改良西门子法生产过程中的副产物:SiCL₄，不会引入新的杂质，脱水效果好，能耗低；纯化后的HCL气体：含水＜50ppm，每千克HCL中含SiCl₄＜0.05kg。

主权项

1.一种改良西门子法-HCL气体脱水纯化方法,其特征在于：包括以下步骤：①系统吹扫：开启吹扫氮气阀门（11），对HCL脱水装置进行吹扫，将系统内的空气排尽；②HCL气体洗涤脱水：使来自HCL合成工序、含有少量水汽的HCL气体从干燥塔塔底进气口进入干燥塔内的填料层（8），与从干燥塔顶部喷淋下来的四氯化硅逆流接触，HCL中的水汽与四氯化硅发生激烈化学反应，HCL中的水汽被吸收，从而使HCL中的水被脱除；③四氯化硅循环：四氯化硅被四氯化硅循环泵（2）泵出，先经过四氯化硅换热器（3）被冷却介质降温，再进入HCL干燥塔（1），经液体分布器（9）或喷淋器均匀分布到填料上，润湿填料表面，与HCL气体接触，干燥HCL，最后回到干燥塔塔底循环桶（12）；④四氯化硅回收：出干燥塔塔顶、携带了部份四氯化硅蒸汽的HCL气体经过干燥塔塔顶冷却器，用冷却介质对其进行冷却，利用四氯化硅液化温度比HCL更高的原理，使HCL与四氯化硅分离，被液化分离的四氯化硅经管道返回干燥塔塔底循环桶（12）。