[发明专利]一种多晶硅还原炉炉筒清洗方法无效
| 申请号： | 201110213570.5 | 申请日： | 2011-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN102357493A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 冯谨;陈骏;杨刊 | 申请（专利权）人： | 河北东明中硅科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B9/08 | 分类号： | B08B9/08 |
| 代理公司： | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人： | 李荣文 |
| 地址： | 052360 河北省石*** | 国省代码： | 河北;13 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种多晶硅还原炉炉筒清洗方法，包括下述步骤：（1）拆开多晶硅还原炉的视镜；（2）用去离子水对还原炉炉筒内壁进行冲洗；（3）用涤纶无纺布蘸取质量分数为5%-10%的氟化氢铵溶液对炉筒内壁进行擦拭，让其溶液在内壁停滞10-15min；（4）用去离子水对还原炉炉筒内壁进行冲洗；（5）再次用涤纶无纺布蘸取质量分数为2%-4%的氟化氢铵溶液对炉筒内壁进行擦拭，让其溶液在炉筒内壁停滞10-15min；（6）用去离子水炉筒内壁进行冲洗，并用氮气吹干；（7）用无水乙醇擦拭炉筒内壁，待到乙醇挥发完全后，用干燥的涤纶无纺布再擦拭一遍。本发明的方法具有简单可行、清洗效率高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多晶 还原 炉炉筒 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种多晶硅还原炉炉筒清洗方法，其特征在于其包括下述步骤：（1）拆开多晶硅还原炉的视镜；（2）采用高压水枪用去离子水对还原炉炉筒内壁进行冲洗；（3）用涤纶无纺布蘸取质量分数为5% 10%的氟化氢铵溶液对炉筒内壁进行擦拭，让其溶液在内壁停滞10 15min；（4）采用高压水枪用去离子水对还原炉炉筒内壁进行冲洗；（5）再次用涤纶无纺布蘸取质量分数为2% 4%的氟化氢铵溶液对炉筒内壁进行擦拭，让其溶液在炉筒内壁停滞10 15min；（6）采用高压水枪用去离子水炉筒内壁进行冲洗，并用氮气吹干；（7）用无水乙醇擦拭炉筒内壁，待到乙醇挥发完全后，用干燥的涤纶无纺布再擦拭一遍。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河北东明中硅科技有限公司，未经河北东明中硅科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110213570.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种真空炉硬钎焊弹性夹紧装置
- 下一篇：健脑散及其用途
