[发明专利]标准CMOS或BICMOS IC工艺中用于实现高电压输入/输出的ESD保护无效
申请号: | 201110222807.6 | 申请日: | 2011-06-22 |
公开(公告)号: | CN102347328A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 科勒·T·克里斯坦森 | 申请(专利权)人: | 奥迪康有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 黄威;王智 |
地址: | 丹麦斯*** | 国省代码: | 丹麦;DK |
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摘要: | 本申请涉及一种ESD保护的方法,包括:a)提供ESD-二极管,其包括阳极和阴极,并且具有正向偏压VD-FB和反向击穿电压VD-RB,大于正向偏压VD-FB,二极管允许电流在从阳极到阴极的正向方向流动,小于反向击穿电压VD-RB,二极管允许电流在从阴极到阳极的反向方向流动;b)提供多个ESD子电路,每个ESD子电路包括与电阻串联耦合的ESD-二极管,每个ESD子电路具有第一和第二电端子;c)将所述的ESD子电路并联连接,第一电端子连接到集成电路的高电压输入或输出,并且第二电端子连接到公共电压;和d)提供在ESD-二极管的正向偏压VD-FB和反向击穿电压VD-RB之间的范围的高电压输入电压摆幅。这具有简化标准CMOS工艺的使用,得到高于标称电压I/Os的优点。 | ||
搜索关键词: | 标准 cmos bicmos ic 工艺 用于 实现 电压 输入 输出 esd 保护 | ||
【主权项】:
一种ESD保护的方法,用于保护采用标准CMOS或BiCMOS IC工艺制造的集成电路的高电压输入或输出,所述高电压输入或输出允许呈现大于标准CMOS或BiCMOS IC工艺的特定最大I/O电压的电压摆幅,所述方法包括a.提供ESD 二极管,其包括阳极和阴极,并且具有正向偏压VD FB和反向击穿电压VD RB,在大于正向偏压VD FB时,二极管允许电流在从阳极到阴极的正向方向流动,在小于反向击穿电压VD RB时,二极管允许电流在从阴极到阳极的反向方向流动;b.提供多个ESD子电路,每个ESD子电路包括与电阻串联耦合的ESD 二极管,每个ESD子电路具有第一和第二电端子;c.将所述的ESD子电路并联连接,第一电端子连接到集成电路的高电压输入或输出,并且第二电端子连接到公共电压;d.使得高电压输入电压摆幅在ESD 二极管的正向偏压VD FB和反向击穿电压VD RB之间的范围内。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的