[发明专利]衬底和使用该衬底的方法无效
| 申请号： | 201110223557.8 | 申请日： | 2008-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN102305990A | 公开（公告）日： | 2012-01-04 |
| 发明（设计）人： | 安东尼内斯·马丁内斯·科尼利斯·皮卓斯·德琼;伊哥·皮卓斯·玛丽安·布克姆斯;理查得·约瑟夫·布鲁尔斯;汉斯·詹森;马丁内斯·亨得利卡斯·安东尼内斯·利恩德尔斯;皮特·弗朗西斯科斯·万腾;马克斯·西奥多·威廉姆斯·范德黑杰登;雅克·考尔·约翰·范德多恩克;弗雷德里克·约翰内斯·范德波卡德;简·克劳埃伍尔德;桑德拉·范德格拉夫;卡门·路莉娅·祖儿德西 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种从用于光刻中的设备去除污染物的方法以及一种适用于从用于光刻中的设备去除污染物的衬底，所述方法包括：将衬底装载到所述设备中，所述衬底包括刚性支撑层以及设置在所述刚性支撑层上的可变形层；将所述衬底的所述可变形层与所述设备的表面形成接触，污染物将从所述设备的表面上去除；引起在所述可变形层和所述设备的将被去除的污染物所在的所述表面之间的相对运动以将污染物从所述表面移除；以及去除被移除的污染物。本发明的其它方面也被描述和阐述。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 使用 方法 | ||
【主权项】：
一种从用于光刻中的设备去除污染物的方法，所述方法包括：将衬底装载到所述设备中，以将污染物吸引到所述衬底上，所述衬底包括第一区域和第二区域，所述第一区域和第二区域配置用于吸引污染物，所述第二区域带有与所述第一区域不同的极性或电荷，所述第一区域和第二区域中的每个区域属于以下四种情况中的一种：带极性且带正电荷、带极性且带负电荷、非极性的并且带正电荷、以及带非极性并且带负电荷；以及将所述衬底从所述设备中卸载。
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