[发明专利]接触结构及半导体器件有效

专利信息
申请号: 201110233050.0 申请日: 2000-07-24
公开(公告)号: CN102339812A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: 山崎舜平 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L23/50 分类号: H01L23/50;G02F1/13;G02F1/1362
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 徐予红;朱海煜
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及接触结构及半导体器件。要提高半导体器件中与各向异性导电膜接触的可靠性,有源矩阵基片上的连接端子(183)的端子部分(182)通过各向异性导电膜(195)电连接到FPC(191)。连接布线(183)在有源矩阵基片上源极/漏极布线的相同工艺中制造,并由金属膜和透明导电膜的叠层膜制成。在具有各向异性导电膜(195)的连接部分中,连接布线(183)的侧面由绝缘材料制成的保护膜(173)覆盖。因此可以避免金属膜被透明导电膜、绝缘底膜以及与之接触的保护膜(173)环绕的部分暴露到空气。
搜索关键词: 接触 结构 半导体器件
【主权项】:
一种显示器件,包括:基片;在所述基片上的端子部分中的连接布线;在所述连接布线上的保护膜,该保护膜具有树脂;以及各向异性导电膜,该各向异性导电膜将所述连接布线电连接到外部电源,其中,所述保护膜覆盖所述连接布线的侧面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110233050.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top