[发明专利]非离子表面活性剂及其制备方法及用途、光刻胶显影液无效
申请号: | 201110260842.7 | 申请日: | 2011-09-05 |
公开(公告)号: | CN102652910A | 公开(公告)日: | 2012-09-05 |
发明(设计)人: | 李琳 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | B01F17/40 | 分类号: | B01F17/40;B01F17/42;C08G65/28;G03F7/32 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种非离子表面活性剂及其制备方法及用途、光刻胶显影液,为提高光刻胶显影液的显影性而发明。本发明公开的非离子表面活性剂,为具有结构式1的物质;结构式1:在结构式1中:R1代表氢、烷基、烷氧基、芳香基或卤素,R2代表氢、烷基、烷氧基、芳香基或卤素;n1为5至20的整数;n2为4至15的整数;m1为5至23的整数;m2为4至18的整数。本发明可用于光刻胶显影液中。 | ||
搜索关键词: | 离子 表面活性剂 及其 制备 方法 用途 光刻 显影液 | ||
【主权项】:
1.一种非离子表面活性剂,其特征在于,所述非离子表面活性剂为具有结构式1的物质;结构式1:在结构式1中:R1代表氢、烷基、烷氧基、芳香基或卤素,R2代表氢、烷基、烷氧基、芳香基或卤素;n1为5至20的整数;n2为4至15的整数;m1为5至23的整数;m2为4至18的整数。
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