[发明专利]一种发射极上黑硅结构的太阳能电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201110263591.8 申请日: 2011-09-07
公开(公告)号: CN102306664A 公开(公告)日: 2012-01-04
发明(设计)人: 夏洋;刘邦武;沈泽南;李超波;刘杰;李勇滔 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种发射极上黑硅结构的太阳能电池及其制备方法,属于太阳能电池器件制造技术领域。所述太阳能电池包括金属栅线电极、钝化层、发射极、黑硅层、硅衬底和金属背电极;金属背电极位于硅衬底的背面,发射极位于硅衬底上,黑硅层位于发射极上,钝化层位于黑硅层上,金属栅线电极位于钝化层上。所述制备方法包括:在硅衬底的背面制备金属背电极;在硅衬底表面制备发射极;在发射极上制备黑硅层;在黑硅层上制备钝化层;在钝化层制备金属栅线电极;烧结硅衬底。本发明提供的太阳能电池结构能够有效提高pn结掺杂分布的均匀性,提高了太阳能电池开路电压,从而提高了太阳能电池的效率。
搜索关键词: 一种 发射极 上黑硅 结构 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种发射极上黑硅结构的太阳能电池,其特征在于,所述太阳能电池包括金属栅线电极、钝化层、发射极、黑硅层、硅衬底和金属背电极;所述金属背电极位于所述硅衬底的背面,所述发射极位于所述硅衬底上,所述黑硅层位于所述发射极上,所述钝化层位于所述黑硅层上,所述金属栅线电极位于所述钝化层上。
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