[发明专利]能够提高雪崩耐量能力的超结器件结构有效

专利信息
申请号: 201110301464.2 申请日: 2011-10-09
公开(公告)号: CN103035634A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 胡晓明;刘梅 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 张骥
地址: 201206 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种能够提高雪崩耐量能力的超结器件结构,包括超结器件的元胞区域、终端,终端设置于元胞区域的外围;在超结器件的元胞区域中,元胞沟槽的顶层覆盖有元胞体注入区,多块元胞N型离子注入区覆盖于元胞体注入区内的部分区域;元胞N型离子注入区的顶层覆盖有元胞源区接触孔,元胞源区接触孔为长条形,元胞源区接触孔沿元胞N型离子注入区的长度方向延伸。在所述元胞源区接触孔的长度方向,元胞源区接触孔全部覆盖元胞N型离子注入区,而只覆盖元胞体注入区的部分区域。本发明能够大大增加孔与元胞体注入区的面积,从而更稳定地控制元胞体注入区的零电位,降低寄生晶体管的基区电阻,提高寄生晶体管触发开启的条件,有效防止寄生晶体管的触发开启。
搜索关键词: 能够 提高 雪崩 能力 器件 结构
【主权项】:
一种能够提高雪崩耐量能力的超结器件结构,其特征在于:包括超结器件的元胞区域、终端,终端设置于元胞区域的外围;在超结器件的元胞区域中,元胞沟槽的顶层覆盖有元胞体注入区,多块元胞N型离子注入区覆盖于元胞体注入区内的部分区域;元胞N型离子注入区的顶层覆盖有元胞源区接触孔,元胞源区接触孔为长条形,元胞源区接触孔沿元胞N型离子注入区的长度方向延伸。
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