[发明专利]一种对称式折反射光学系统有效
| 申请号： | 201110303136.6 | 申请日： | 2011-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN103033915A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 郭银章;武珩;徐涛 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种大视场的对称式折反射光学系统，用于光刻曝光系统，沿光线传播方向依次包括：物面；第一反射镜；第一透镜组；一光阑；第二透镜组；第二反射镜；像面；其中，所述各光学元件在同一光轴上，且光阑前、后的光学系统相对于光阑对称。本发明的大视场对称式折反射光学系统，是满足ghi三线，双远心对称式的1倍折反射式投影物镜，满足实际产品需求。同时由于采用对称式设计，垂轴像差，慧差，畸变，倍率色差将会很小；用于补偿的折射镜组位于两主反射镜中间的光阑附近，所以有效减小了折射元件的口径，折射元件的口径和视场的比值做到了将近1：2，从而有效地控制了成本和加工难度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对称 反射 光学系统 | ||
【主权项】：
一种用于光刻曝光系统的对称式折反射光学系统，其特征在于沿光线传播方向依次包括：物面；一第一反射镜；一第一透镜组；一光阑；一第二透镜组；一第二反射镜；像面；其中，所述各光学元件在同一光轴上，且光阑前、后的光学系统相对于光阑的中心对称。
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