[发明专利]一种MOS晶体管电容无效

专利信息
申请号: 201110309971.0 申请日: 2011-10-13
公开(公告)号: CN102412312A 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 王一奇;韩郑生;赵发展;刘梦新;毕津顺 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L29/94 分类号: H01L29/94;H01L29/06;H01L29/08
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种MOS晶体管电容,属于集成电路技术领域。该电容包括P型体区,n+源区,n+漏区,附着于P型体区上的薄栅氧,以及,附着于薄栅氧上面的多晶硅栅,n+源区和n+漏区分别连接于P型体区,该电容增大了MOS晶体管电容在单位面积上的电容值。同时,本发明还公开了一种应用了该MOS晶体管电容的存储单元。该存储单元能够减弱单粒子翻转效应的影响。
搜索关键词: 一种 mos 晶体管 电容
【主权项】:
一种MOS晶体管电容,包括P型体区,n+源区,n+漏区,附着于所述P型体区上的薄栅氧,以及,附着于所述薄栅氧上面的多晶硅栅,其特征在于,所述n+源区和n+漏区分别连接于所述P型体区。
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