[发明专利]一种氮化钛/镍纳米多层薄膜的制备方法无效
| 申请号： | 201110316033.3 | 申请日： | 2011-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN102330062A | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 贺春林;张金林;王建明;刘岩;马国峰;李海松;娄德元;杨雪飞;才庆魁 | 申请（专利权）人： | 沈阳大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/18 |
| 代理公司： | 沈阳技联专利代理有限公司 21205 | 代理人： | 赵越 |
| 地址： | 110044 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种氮化钛/镍纳米多层薄膜的制备方法，涉及陶瓷/金属纳米多层薄膜制备方法，包括以下制备步骤：选用钢材为基体，基体表面经砂纸研磨并抛光后，分别用丙酮、酒精和去离子水超声波清洗、烘干后装入真空室；用直流反应磁控共溅射镀膜系统，纯金属钛靶和纯金属镍靶同时对准上方中心处的基体，沉积多层薄膜前先将真空室抽真空至6.0×10-4帕，然后通入高纯氩气，在基体上沉积一层厚度为30~100纳米的金属钛层；通过计算机精确控制靶材上挡板的打开时间进行交替沉积TiN/Ni纳米多层薄膜；镀膜结束后样品随炉冷却至室温即可。该薄膜可应用于切削刀具、模具的表面或作为装饰薄膜应用于钟表、首饰等产品。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氮化 纳米 多层 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种氮化钛/镍纳米多层薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下制备步骤：a 选用钢材为基体，基体表面经砂纸研磨并抛光后，分别用丙酮、酒精和去离子水超声波清洗、烘干后装入真空室准备镀膜；b用直流反应磁控共溅射镀膜系统，纯金属钛靶和纯金属镍靶同时对准上方中心处的基体，沉积多层薄膜前先将真空室抽真空至6.0×10‑4帕，然后通入高纯氩气，在基体上沉积一层厚度为30~100纳米的金属钛层；c 通过计算机精确控制靶材上挡板的打开时间进行交替沉积TiN/Ni纳米多层薄膜；d.镀膜结束后样品随炉冷却至室温即可。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳大学，未经沈阳大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110316033.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
