[发明专利]制造显示单元的方法以及显示单元无效
申请号: | 201110336926.4 | 申请日: | 2009-06-09 |
公开(公告)号: | CN102339957A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 荒井俊明 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/52;G02F1/133 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供制造显示单元的方法以及显示单元,在第一电极具有包括金属和氧化物电导体的层叠结构的情况下,能够减少氧化物电导体的由溅射靶引起的微粒,且在金属和氧化物电导体之间获得有利的导电性。制造在第一电极和第二电极之间具有显示层的显示单元的方法,其中形成第一电极的步骤包括这样的步骤:在基板上形成层叠结构,该层叠结构依次包括有金属制作的第一层和由氧化物显示导电性的金属制作的第二层;以及在形成层叠结构后提供表面氧化处理,由此在第二层的厚度方向上的至少部分中形成氧化物电导体膜。 | ||
搜索关键词: | 制造 显示 单元 方法 以及 | ||
【主权项】:
一种制造显示单元的方法,该显示单元在第一电极和第二电极之间具有显示层,其中形成该第一电极的步骤包括下面的步骤:在基板上形成层叠结构,该层叠结构依次包括由金属制作的第一层和由氧化物显示导电性的金属制作的第二层;在所述第二层上形成绝缘膜,该绝缘膜覆盖该第二层的平面形状的一部分;并且在形成该层叠结构及该绝缘膜后对该第二层的从该绝缘膜暴露的表面暴露部分提供表面氧化处理,由此在该第二层的该表面暴露部分中的厚度方向上的至少部分中形成氧化物电导体膜。
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