[发明专利]像素阵列及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201110343614.6 申请日: 2011-11-03
公开(公告)号: CN102402043A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 陈孝贤 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1362;H01L21/77
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 欧阳启明
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种像素阵列,包括储存电容,所述像素阵列上涂布有色阻区,所述色阻区包括所述储存电容的第一色阻区,以及所述储存电容之外的其它区域的第二色阻区;所述第一色阻区的厚度大于所述第二色阻区的厚度,且所述储存电容之外的其他区域的厚度等于维持像素阵列色度的最小厚度值,以使得所述储存电容的面积减小时,所述像素在一个帧的周期内保有所需的电位。本发明还提供一种像素阵列的制作方法。
搜索关键词: 像素 阵列 及其 制作方法
【主权项】:
一种像素阵列,包括储存电容,其特征在于:所述像素阵列上涂布有色阻区,所述色阻区包括所述储存电容的第一色阻区,以及所述储存电容之外的其它区域的第二色阻区;其中,所述第一色阻区的厚度大于所述第二色阻区的厚度,且所述储存电容之外的其他区域的厚度等于维持像素阵列色度的最小厚度值,以使得所述储存电容的面积减小时,所述像素单元在一个帧的周期内保有所需的电位。
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