[发明专利]基板处理方法有效

专利信息
申请号: 201110344163.8 申请日: 2011-11-02
公开(公告)号: CN102468154A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 古屋敦城;佐藤亮 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/3065 分类号: H01L21/3065;H01L21/67
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种基板处理方法,即使在放电开始后基板立即产生位置偏移,也能够尽早检测而立即中止处理,由此能够极力防止由于异常放电导致载置台损伤。该方法具有以下放电步骤:当通过开始提供导热气体而暂时上升的导热气体的流量降低并稳定之前成为规定的调压结束基准值以下时,对处理容器内提供高频电力来开始放电,在基板保持面上的被处理基板上产生上述处理气体的等离子体,在放电步骤中,在导热气体流量稳定之前的时刻设置多个判断点,在该判断点处,当由流量传感器检测出的导热气体流量超过规定的阈值时判断为存在基板偏移,针对每个判断点设定阈值,由此不需要等待导热气体流量的稳定就进行基板偏移判断。
搜索关键词: 处理 方法
【主权项】:
一种基板处理方法,对设置于等离子体处理装置的能够减压的处理容器内的被处理基板实施利用等离子体的处理,其中,上述等离子体处理装置具备:基板保持部,其配置于上述处理容器内,构成用于载置保持上述被处理基板的载置台;导热气体流路,其将来自导热气体提供源的导热气体提供到上述基板保持部与被保持在该基板保持部的基板保持面上的被处理基板之间;流量传感器,其检测向上述导热气体流路流出的导热气体流量;高频电源,其将用于产生上述等离子体的高频电力提供到上述处理容器内;以及处理气体提供部,其将通过上述高频电力被等离子体化的处理气体提供到上述处理容器内,该基板处理方法具有以下步骤:调压步骤,以使上述导热气体成为规定压力的方式,从上述导热气体提供源将上述导热气体提供到上述基板保持部与上述被处理基板之间;以及放电步骤,当通过开始提供上述导热气体而暂时上升的上述导热气体的流量降低并稳定之前成为规定的调压结束基准值以下时,对上述处理容器内提供高频电力来开始放电,在上述基板保持面上的被处理基板上产生上述处理气体的等离子体,其中,在上述放电步骤中,在导热气体流量稳定之前的时刻设置多个判断点,在各判断点处,当由上述流量传感器检测出的导热气体流量超过规定的阈值时判断为存在基板偏移,针对每个判断点设定上述阈值,由此不需要等待上述导热气体流 量的稳定就进行基板偏移判断。
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