[发明专利]彩膜基板、TFT阵列基板及其制造方法和液晶显示面板有效

专利信息
申请号: 201110369001.X 申请日: 2011-11-16
公开(公告)号: CN102629018A 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 朴相镇 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1333;G03F7/00;H01L21/77;H01L27/02
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种彩膜基板、TFT阵列基板及其制造方法和液晶显示面板,涉及液晶显示器制造领域,以解决一整块显示面板上不同尺寸的单元显示面板所需盒厚不同的问题。其中彩膜基板的制造方法,包括:在形成有黑矩阵和彩色滤光片的基板上涂布公共电极层;利用半透式掩膜板或灰色调掩摸板对所述公共电极层进行构图工艺处理,得到对应彩膜基板不同尺寸单元彩膜基板的厚度不同的公共电极层。本发明用于液晶显示面板制造。
搜索关键词: 彩膜基板 tft 阵列 及其 制造 方法 液晶显示 面板
【主权项】:
一种彩膜基板的制造方法,其特征在于,包括:在形成有黑矩阵和彩色滤光片的基板上涂布公共电极层;利用半透式掩膜板或灰色调掩摸板对所述公共电极层进行构图工艺处理,得到对应彩膜基板不同尺寸单元彩膜基板的厚度不同的公共电极层。
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