[发明专利]图案形成方法及图案形成装置有效
申请号: | 201110369542.2 | 申请日: | 2011-11-15 |
公开(公告)号: | CN102694062A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 岩岛正信;真田雅和 | 申请(专利权)人: | 大日本网屏制造株式会社 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 董雅会;郭晓东 |
地址: | 日本国京*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种图案形成方法。从沿着基板(W)的表面(Wf)向扫描移动方向(Ds)移动的嘴体(N)喷出含有光固性材料的涂敷液,并且从以追随嘴体(N)的方式移动的光射出部(E)对涂敷液照射光(例如UV光)。在到达涂敷结束位置时,嘴体(N)停止喷出涂敷液,并且嘴体(N)向与基板表面(Wf)相分离的方向退避。另一方面,对于光照射部(E)而言,继续向扫描移动方向(Ds)移动,从而光能够可靠地照射到涂敷液的末端部。 | ||
搜索关键词: | 图案 形成 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种图案形成方法,其特征在于,包括:第一工序,一边使嘴体沿着基板的表面向规定的扫描移动方向相对移动,一边从所述嘴体的喷出口连续地喷出含有光固性材料的涂敷液,第二工序,使光射出单元以追随所述嘴体的方式沿着所述基板的表面向所述扫描移动方向相对移动,并对涂敷于所述基板的所述涂敷液进行光照射,从而使所述光固性材料光固化;当所述嘴体相对于所述基板的相对位置到达规定的涂敷结束位置时,从所述喷出口停止喷出所述涂敷液,并且使所述嘴体向与所述基板的表面相分离的方向相对于所述基板的表面相对移动;在所述嘴体与所述基板的表面相分离后,使所述光射出单元相对于所述基板向所述扫描移动方向相对移动来进行光照射,直到照射到因所述喷出口停止喷出而终断的所述涂敷液的末端部为止。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大日本网屏制造株式会社,未经大日本网屏制造株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110369542.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:冷轧带钢边部板形控制方法
- 下一篇:旋转于水下拍摄的摄像装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的