[发明专利]晶片洗涤器和晶片清洗方法有效
| 申请号： | 201110369740.9 | 申请日： | 2011-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN103008309A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 章正欣;陈逸男;刘献文 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B11/00 | 分类号： | B08B11/00 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;熊传芳 |
| 地址： | 中国台湾桃园县龟山*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种晶片洗涤器和晶片清洗方法。一种晶片洗涤器，包括：腔室；支托盘，连接至承轴且位于腔室中，其中支托盘对晶片进行支撑；以及网状内杯，包括多个穿孔且位于支托盘与腔室的侧壁之间，其中网状内杯接收来自晶片表面的水以及绕着承轴旋转且将水经由穿孔释放。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 洗涤器 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种晶片洗涤器，其特征在于，包括：腔室；支托盘，连接至承轴且位于所述腔室中，所述支托盘对晶片进行支撑；以及网状内杯，包括多个穿孔并位于所述支托盘与所述腔室的侧壁之间，所述网状内杯接收来自所述晶片表面的水以及绕着所述承轴旋转且将水经由所述多个穿孔释放。
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