[发明专利]可异地加工四银低辐射镀膜玻璃及其制造方法无效
| 申请号： | 201110381671.3 | 申请日： | 2011-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN102501449A | 公开（公告）日： | 2012-06-20 |
| 发明（设计）人： | 林嘉宏 | 申请（专利权）人： | 林嘉宏 |
| 主分类号： | B32B9/04 | 分类号： | B32B9/04;B32B15/00;B32B17/00 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 215321 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可异地加工四银低辐射镀膜玻璃及其制造方法，包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的膜层，其特征在于，所述膜层自玻璃基片向外依次包括：基层电介质层、第一电介质组合层、第一阻挡保护层、第一银层、第二阻挡保护层、第一间隔电介质组合层、第三阻挡保护层、第二银层、第四阻挡保护层、第二间隔电介质组合层、第五阻挡保护层、第三银层、第六阻挡保护层、第三间隔电介质组合层、第七阻挡保护层、第四银层、第八阻挡保护层、第二电介质组合层。本发明采用了独特的膜层结构和制造方法，使产品具有较高的可见光透过率、极低的辐射率、良好的光热比和光学稳定性，耐候性及抗氧化性佳，可实现异地加工，满足深加工对产品性能的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 异地 加工 四银低 辐射 镀膜 玻璃 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种可异地加工四银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的膜层，其特征在于，所述膜层自玻璃基片向外依次包括：基层电介质层、第一电介质组合层、第一阻挡保护层、第一银层、第二阻挡保护层、第一间隔电介质组合层、第三阻挡保护层、第二银层、第四阻挡保护层、第二间隔电介质组合层、第五阻挡保护层、第三银层、第六阻挡保护层、第三间隔电介质组合层、第七阻挡保护层、第四银层、第八阻挡保护层、第二电介质组合层。
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