[发明专利]一种X射线传感器的制作方法有效

专利信息
申请号: 201110397822.4 申请日: 2011-12-02
公开(公告)号: CN102629613A 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 徐少颖;谢振宇;陈旭 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种X射线传感器的制作方法,该方法包括:在基板上制备至少两条栅极扫描线;在基板和栅极扫描线上依次沉积栅绝缘层、有源层薄膜、欧姆接触层薄膜、第一导电层薄膜、光电转换层薄膜,制备与栅极扫描线交叉的至少两条数据线、光电感应器件和开关器件;制备覆盖光电感应器件和开关器件的第一钝化层,在第一钝化层上制备过孔,过孔位于光电感应器件区域内的选定位置处;在第一钝化层上面,与数据线和开关器件对应的位置上制备偏压线,偏压线通过过孔与光电感应器件电连接;制备覆盖偏压线和第一钝化层的第二钝化层。采用本发明中的方法降低了产品成本,提高了良品率和设备产能。
搜索关键词: 一种 射线 传感器 制作方法
【主权项】:
一种X射线传感器的制作方法,其特征在于,包括:在基板上制备至少两条栅极扫描线;每条所述栅极扫描线作为所述X射线传感器中一行像素单元包括的开关器件的栅极;在所述基板和栅极扫描线上依次沉积栅绝缘层、有源层薄膜、欧姆接触层薄膜、第一导电层薄膜、光电转换层薄膜;对所述有源层薄膜、欧姆接触层薄膜、第一导电层薄膜、光电转换层薄膜采用一道灰色调掩模工艺进行处理,得到与所述栅极扫描线交叉的至少两条数据线、光电感应器件和开关器件,每条所述数据线作为所述X射线传感器中一列像素单元包括的开关器件的漏极,所述开关器件的源极与光电感应器件的负电极连接;制备覆盖所述光电感应器件和开关器件的第一钝化层,在所述第一钝化层上制备过孔,所述过孔位于光电感应器件区域内的选定位置处;在第一钝化层上面,与所述数据线和开关器件对应的位置上制备偏压线,所述偏压线通过所述过孔与光电感应器件电连接;制备覆盖所述偏压线和所述第一钝化层的第二钝化层。
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