[发明专利]通过调整陶瓷品表面粗糙度来改善设备颗粒状况的方法无效
| 申请号： | 201110407858.6 | 申请日： | 2011-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN103159508A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 温海东;夏志刚;李顺义 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/91 | 分类号： | C04B41/91;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 高月红 |
| 地址： | 201206 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种调整陶瓷品表面粗糙度来改善设备颗粒状况的方法，该方法是一种改善DPS Trench etch刻蚀工艺中出现的颗粒状况方法，步骤包括：通过将dome陶瓷品的表面粗糙度控制在2.5～3.5μm之间。包括：通过将dome陶瓷品的表面粗糙度控制在2.5～3.5μm之间，从而改善后续进行的DPS Trench刻蚀工艺中出现的颗粒较差问题。本发明不仅有效解决DPS Trench etch刻蚀工艺中出现的颗粒较差问题，而且实现了对废弃dome陶瓷品的再利用，不仅节省成本，还环保。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 调整 陶瓷 表面 粗糙 改善 设备 颗粒 状况 方法 | ||
【主权项】：
一种调整陶瓷品表面粗糙度来改善设备颗粒状况的方法，其特征在于：所述方法是改善DPS Trench etch刻蚀工艺中出现的颗粒状况方法，步骤包括：通过将dome陶瓷品的表面粗糙度控制在2.5～3.5μm之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹NEC电子有限公司，未经上海华虹NEC电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110407858.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
